一、案件背景

現在、中国は太陽光発電の製造において絶対的に優位な地位にある。世界中の太陽光発電部品の需要が急速に増加しており、製造設備の需要も急激に増えている。その結果、設備メーカー間で激しい競争が展開されている。

筆者が、「H01L31/18. これらのデバイスまたはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置[2006.01]」という主分類コードのみで電池製造工程に関連する装置特許を検索した結果、中国国内では下記3件の特許侵害訴訟が発生している。(1)CN101973160B、角度調節可能な印刷スクリーンとその角度調節装置、(2)CN201616448U、太陽光発電用シリコンウェハーのレーザー划線防止装置、(3)CN210628335U、シリコンウェハーの洗浄装置。これらの訴訟はすべて2020年以降に起きており、それぞれスクリーン印刷装置、レーザー切断装置、シリコンウェハー洗浄装置に関連している。本文では特に第3件の特許に焦点を当て、実用新案特許の特徴について述べる。

二、事例の概要

関連する特許（CN210628335U）の出願日は2019年11月20日であり、2020年5月26日に特許権を得た。調査の結果、この実用新案特許と同日に出願された発明特許（CN201911139288.X）が存在し、現在、この発明特許は実質審査の段階にある。

この特許は、太陽電池のテクスチャリング洗浄工程に適用されるシリコンウェハー洗浄装置に関連している。光伏産業の現在の段階では、装置の自動化レベルとコスト削減の要求がますます高まっている。そのため、この装置は以下のような特徴を持っている。（1）テクスチャリング洗浄には複数の洗浄工程が含まれる可能性があり、それぞれが異なる洗浄槽で行われる。本発明の転送部品により、シリコンウェハーは各洗浄プロセスの装置間で自由に切り替えることができる。（2）洗浄槽には泡立て装置が使用され、洗浄液をより均一にする。（3）隔離部品を使用して工程装置の内部空間と外部空間を相互に連通または分離し、異なる工程装置間の洗浄液の干渉によるシリコンウェハーへの影響を減らす。（4）洗浄槽には主洗浄槽と副洗浄槽が含まれており、両者は連通部を介して接続され、総液体量を減らしてコストを節約し、部品全体のサイズを縮小する。

権利者は2020年6月17日に国家知識産権局に実用新案特許の評価報告を依頼し、国家知識産権局は2020年7月22日に評価報告を発行し、請求項1-7は創造性を持たず、請求項8-10は創造性を持つと認定した。

権利者は2020年11月3日に江蘇省南京市中級人民法院に特許侵害訴訟を提起し、無錫クンシェンインテリジェント装備有限公司と天合光能（宿遷）光電有限公司に対して実用新案特許権の侵害を主張した。同法院は2020年11月25日に「原告が天合光能（宿遷）光電有限公司を共同被告として訴訟を提起した後、本件の受理後にその訴訟を取り下げ、侵害停止と損害賠償を求める主張を放棄したことは明らかに意図的な管轄連結点を作り出す意図を持っており、民事訴訟における誠実信用原則に違反しているため、この案件は江蘇省蘇州市中級人民法院に移送される」という判決を下した。

この訴訟提起後、利害関係者は4回の無効審判を請求し、最新の無効審判決定の作成日は2023年1月13日である。権利者は１回目の無効審判および2回目の無効審判で請求項8の一部の特徴を独立請求項1に追加し、復審無効審理部は4回の無効審判でこの修正に基づいて特許権を維持した。

三、案件の観察

この案件の訴訟および無効審判において、実用新案特許に関連するいくつかの特徴が注目されており、以下で説明する。

（１）．一案双申制度の適用

同日申請とは、申請者が同じ技術案に対して発明特許出願と実用新案特許出願を同時に行うことを指す。先に取得した実用新案特許権がまだ終了しておらず、かつ申請者がその実用新案特許権を放棄した場合には、発明特許権を授与することができる。

現在、中国の実用新案特許の審査期間は約6ヶ月である。本案の特許は実用新案特許であり、2020年5月26日に権利が取得され、2020年11月3日に特許侵害訴訟が提起された。技術の更新が速い業界において、実用新案特許は同業他社に対して有効かつ柔軟な対抗手段となるが、保護期間はわずか10年間であり、同日申請の発明特許が後に権利が取得される場合、それに対応する技術案件は発明特許の20年間の保護期間を享受することができる。

（２）．実用新案評価報告の活用

中国の実用新案特許は実質審査ではなく方式審査のみを行われるが、利害関係者はいかなる場合でも専利局に対し、実用新案特許の特許権評価報告を請求することができる。《中国特許法施行細則》第57条によれば、国家知識産権局は特許権評価報告の申請書を受け取った後、2か月以内に特許権評価報告を作成する義務がある。

実用新案特許の侵害訴訟では、原告は自発的に特許権評価報告を提出することができ、その評価報告は証拠として適用され、裁判所が特許権の安定性を判断し、被告が特許権の無効審判を請求した場合に関連手続きを中止するかどうかを決定するために参考とされる。訴訟の審理過程で、裁判所は原告に対して特許権評価報告の提出を要求することもある。特許権評価報告の提出を拒否した場合、人民法院は訴訟を中止するか、原告に不利な結果を負わせる判決を下す可能性がある。ただし、特許権評価報告は訴訟の立案に必要な条件ではなく、特許権が無効であると判定されていない限り、特許権評価報告によって新規性や創造性が欠けると評価されたとしても、法的に特許権者の地位を否定することはできない。

特許権評価報告が特許権を覆す効力を持たないことを考慮すると、具体的な案件では特許権評価報告を客観的に見る必要がある。本案の特許権評価報告は誤って、先行技術に「（1）テクスチャリング洗浄には複数の洗浄工程が含まれる可能性があり、それぞれが異なる洗浄槽で行われる。本発明の転送部品により、シリコンウェハーは各洗浄プロセスの装置間で自由に切り替えることができる。」という装置の特徴が開示されていると認定している。この事実認定により、誤って請求項1が創造性を欠如すると認定している。無効請求人が最初の無効審判請求を提起した際、特許権者は独立請求項を制限する修正を行ったが、それは特許権評価報告の影響を受けたものと推測される。実際、４回の無効審判請求で提出した証拠と理由により、元の権利範囲を維持することができる。特許権者の誤った判断により、不必要な制限が権利範囲に課せられてしまった。

四、実用新案特許の構造的特徴の書き方に関するアドバイス

（１）関連技術の事前検索

対象特許の請求項の発明の名称は「シリコンウェハーの洗浄装置」という、典型的な用途制限の請求項だが、４回の無効審判請求ではいずれも異なる応用領域の特許文献が引用されている。例えば、光学チップの洗浄装置などである。中国の特許審査指南では、用途制限に対する審査に明確な規定があり、即ち、発明の名称に用途制限が含まれる請求項に対し、その用途制限は、製品請求項の保護範囲を確定する際に考慮されるべきであり、実際の制限範囲は、保護が要求される製品にどのような影響をもたらすかによる。

したがって、特許出願前の事前検索では、請求項の実際の保護範囲を十分に考慮する必要がある。特に装置が一般領域にも適用される可能性がある場合、検索範囲を関連領域や一般領域に拡大する必要がある。例えば、太陽光発電装置の関連技術は半導体領域にも適用される可能性がある。検索範囲を狭く限定すると、検索結果が全面的に検出されず、特許権の安定性を正確に予測することができない可能性がある。

（２）構造的特徴に対する記述

３回目の無効審判請求において、A26.4（請求項が明確でない）との理由が含まれており、つまり、「泡立ち穴が泡立ち管の左側部管壁および/または右側部管壁に設けられている」における「左右」、および「主洗浄槽中に循環管の一部または全部が設けられている」における「一部または全部」との位置関係に関与している。合議体は、説明書の記載に基づいて上記の概念を解釈し、上記の請求理由を否定した。さらに、「工程装置」、「隔離部品」などの特徴についても、説明書を利用して解釈を行い、先行技術と異なっているとの判断を下した。

以上のことから、特に複雑な装置の構造については、具体例を使用して装置の構造と機能を詳細に説明することが必要である。これにより、特許審査や無効審判において特徴が過度に広く評価されることになり、関連特徴が先行技術によって開示されるか明確ではないと判断されることを避けられる。